مقاله سنتز لایه های اتمی MoS2 دو بعدی در مقیاس بزرگ با روش رسوب دهی شیمیایی بخار بدون هیدروژن و پرومتر (2016 الزویر)
| عنوان فارسی مقاله | سنتز لایه های اتمی MoS2 دو بعدی در مقیاس بزرگ با روش رسوب دهی شیمیایی بخار بدون هیدروژن و پرومتر |
| عنوان انگلیسی مقاله | Synthesis of large-scale 2-D MoS2 atomic layers by hydrogen-free and promoter-free chemical vapor deposition |
| فهرست مطالب | چکیده1. مقدمه
2. آزمایش 3. نتایج و بحث 4. خلاصه |
| بخشی از متن مقاله انگلیسی | AbstractAs one of the two-dimensional (2-D) transition metal dichalcogenides, atomically thin molybdenum disulfide (MoS2) has attracted significant attention and research interests for micro and nanoelectronic applications. Significant efforts have been made to develop different approaches in order to obtain atomic layer MoS2, such as exfoliation, chemical synthesis, and physical or chemical vapor deposition (CVD) processes. In this paper, we report a hydrogen-free and promoter-free CVD growth to synthesize large-area MoS2 atomic layers. A variety of techniques including optical microscopy (OM), atomic force microscopy (AFM), photoluminescence (PL) mapping, Raman and x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), high resolution electron microscopy (HREM) and scanning transmission electron microscopy (STEM) were applied to characterize the film quality, uniformity and layer numbers. High quality centimeter-sized MoS2 atomic layers were demonstrated, which form a foundation to develop wafer-sized material platform for device fabrication and production. |
| ترجمه بخشی از متن مقاله | چکیده
به عنوان یکی از دی کالگونیدهای فلزات واسطه 2 بعدی، مولیبدنیوم دی سولفید نازک اتمی (MoS2) در کاربردهای میکرو و نانوالکترونیک، توجه تحقیق را به خود جلب کرده است. در این راستا تلاشهایی در جهت توسعه شیوه های مختلف دستیابی به MoS2 لایه اتمی صورت گرفته است که از این جمله می توان به پوسته پوسته شدن، سنتز شیمیایی و فرایندهای رسوب دهی فیزیکی یا شیمیایی بخار (CVD) اشاره نمود. در این مقاله، رشد CVD بدون هیدروژن و بدون پرومتر برای سنتز لایه های اتمی MoS2 در مقیاس بزرگ را گزارش می کنیم. از تکنیک های گوناگونی مثل میکروسکوپی نوری (OM)، میکروسکوپی نیروی اتمی (AFM)، نگاشت فوتولومینسانس (PL)، طیف بینی فوتوالکترونی اشعه x و رامان (XPS)، میکروسکوپی الکترونی با وضوح بالا (HREM) ، و میکروسکوپی الکترون روبشی عبوری (STEM) برای توصیف کیفیت فیلم، یکنواختی و تعداد لایه استفاده گردید. لایه های اتمی MoS2 در اندازه سانتی متر با کیفیت بالا شرح داده شدند، آنها بنیانی برای توسعه پلتفرم ماده ای در اندازه ویفر برای ساخت و تولید وسیله تشکیل می دهند. |
| سال انتشار | 2016 |
| ناشر | الزویر |
| مجله | اسناد مواد – Materials Letters |
| کلمات کلیدی | مولیبدنیوم دی سولفید، رسوب دهی شیمیایی بخار، اندازه ویفر، ماده دو بعدی، دی کالگونیدهای فلزات واسطه |
| تعداد صفحات مقاله انگلیسی | 4 |
| تعداد صفحات ترجمه مقاله | 8 |
| مناسب برای رشته | مهندسی برق، مهندسی مواد و شیمی |
| مناسب برای گرایش | نانو مواد، افزاره های میکرو و نانو الکترونیک، نانو شیمی و شیمی کاربردی |
| دانلود رایگان مقاله انگلیسی | ○ دانلود رایگان مقاله انگلیسی با فرمت pdf |
| خرید ترجمه فارسی | ○ خرید ترجمه آماده این مقاله با فرمت ورد |
| سایر مقالات این رشته | ○ مشاهده سایر مقالات رشته مهندسی برق |
